sábado, 10 de enero de 2015

La mayoría de las infecciones en implantología ósea, que cada año afecta a miles de pacientes, tienen su origen en la intervención quirúrgica.

Desarrollan nanoestructuras para implantes óseos

Los científicos lograron esta propiedad sin necesidad de emplear elementos antibióticos.

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El estudio aparece publicado en la revista Acta Biomaterialia
EL UNIVERSAL
viernes 9 de enero de 2015  12:02 PM
Madrid.- Un equipo internacional de investigadores ha desarrollado una estructura de titanio para recubrir los implantes óseos, un avance que permitirá reducir el riesgo de infección y el rechazo que provocan estas intervenciones.

El estudio, realizado por miembros de las instituciones españolas Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC) y la Universidad Complutense de Madrid, aparece publicado en la revista Acta Biomaterialia.

El descubrimiento alcanzado por este equipo de investigación es la base del proyecto "Nanoimplant", uno de los ganadores del premio de innovación biomédica IDEA2 Madrid en su edición de 2014, una iniciativa de la Comunidad de Madrid y el Instituto Tecnológico de Massachusetts (MIT).

Las propiedades antibacterianas de este hallazgo, patentado por el CSIC y la Universidad Complutense de Madrid, se deben a la formación de una superficie nanoestructurada similar a la que se observa en las alas de cigarras y en las hojas de la flor de loto.

El CSIC explicó que los científicos lograron esta propiedad sin necesidad de emplear elementos antibióticos, informó Efe. 

La mayoría de las infecciones en implantología ósea, que cada año afecta a miles de pacientes, tienen su origen en la intervención quirúrgica.

Por eso, explica José Miguel García-Martín, investigador del CSIC en el Instituto de Microelectrónica de Madrid, "si la superficie del implante está recubierta de un material que impide la adhesión y proliferación de bacterias sin afectar a su biocompatibilidad, se habrá dado un gran paso".

El recubrimiento nanoestructurado de las prótesis se fabrica con un proceso denominado pulverización catódica o 'sputtering' ya empleado a escala industrial en la producción, por ejemplo, de discos duros, paneles fotovoltaicos o espejos.

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